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電解複合研磨(電解砥粒研磨)

電解複合研磨(電解砥粒研磨)とは、電解研磨の電気化学反応に砥粒の機械的な研磨作用を組み合わせた工法です。

電解反応で表面を溶解しながら、同時に砥粒で微細な凹凸を除去するため、通常の電解研磨よりも高い平滑性と仕上げ品質を実現できます。「超鏡面」「高真空対応」「極低Ra」など、電解研磨単体では到達が難しいシビアな要求仕様に対応するための工法です。

電解研磨と電解複合研磨は何が違うか

電解研磨と電解複合研磨は、どちらも電解反応を使った表面処理ですが、到達できる仕上げ品質の領域が異なります。

比較項目 電解研磨 電解複合研磨
原理 電気化学反応で表面を溶解 電解反応+砥粒による機械研磨
到達Raの目安 Ra 0.2〜0.4μm程度 Ra 0.1μm以下も対応可
主な対応用途 清浄性・耐食性・一般的な平滑化 超鏡面・高真空・精密部品
コスト・工期 比較的短い傾向 工程が複雑になる分、高くなる傾向

大きな違いは、仕上がりのRa到達域です。一般的な電解研磨ではRa 0.2μm程度が実用的な下限となるケースが多いのに対し、電解複合研磨ではRa 0.1μm以下の超鏡面領域を狙うことが可能です。

三和産業の実測データでは、電解複合研磨でRa 0.0027μm / Ry 0.0192μmという超鏡面を実現しています。これは通常の電解研磨(Ra 0.020μm / Ry 0.136μm)やバフ研磨(Ra 0.017μm / Ry 0.151μm)と比較して、桁違いの平滑性です。

ただし、すべての案件で電解複合研磨が必要なわけではありません。要求品質が電解研磨で達成可能な範囲であれば、コストと工期の面で電解研磨を選ぶ方が合理的です。

どんな条件で電解複合研磨を選ぶのか

以下のような要求がある場合に、電解複合研磨が候補に挙がります。

表面粗さ(Ra)の要求が
シビアなケース

三和産業の電解複合研磨の用途

Ra 0.1μm以下、または数値指定の品質管理が求められるケースです。半導体ウェハー接触面や光学関連部品が該当します。

Raの目標設定については表面粗さ(Ra)・仕上げ品質で詳しく解説しています。

真空性の確保が必要なケース

真空チャンバーの内壁やフランジなど、アウトガスの低減が求められる用途です。表面の微細な欠陥がアウトガスの原因となるため、通常の電解研磨より高い平滑性が求められます。

清浄性の要求が極めて高いケース

電解複合研磨は表面の微小な欠陥を砥粒工程で積極的に除去するため、清浄性の面で優位性があります。

三和産業の電解複合研磨の対応材質一覧

ステンレス SUS304(L)・SUS316(L)
チタン Ti_2種・Ti_1種・Ti_JIS60種
その他 ハステロイC-22

注意点

形状・サイズの制約

砥粒を当てる工程があるため、対象の形状や寸法によっては適用が難しい場合があります。内面が主体の場合や極端に複雑な形状では、事前に対応可否の確認が必要です。

コストへの影響

工程が電解研磨より複雑になる分、コストは高くなる傾向があります。電解研磨で十分な品質が出るかを先に検討し、不足する場合に電解複合研磨を選ぶのが合理的な進め方です。

前処理の重要性

電解複合研磨は仕上げ工程であり、前処理の状態が最終的な品質に直結します。素材の加工履歴や前処理の仕上げ条件を正確に共有いただくことが、安定した品質の実現につながります。

ご相談時に揃えておきたい情報

  • 材質と加工履歴(熱処理、前処理の仕上げ状態)
  • 寸法・形状の図面や写真
  • 目標品質(Ra値、外観基準、清浄度、真空性能)
  • 検査要求(測定方法、検査成績書の要否)
  • 希望納期と数量
超鏡面・高真空仕上げのご相談はこちら。

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